PLASMA CLEANING & SURFACE ACTIVATION

電漿清潔與表面活化

利用真空電漿技術去除表面污染物、殘膠及有機污染,提升材料潔淨度,為後續製程提供更穩定的表面條件。

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Wafer 電漿清潔前後對比

SERVICE SUPPORT

我們能協助您

01

Wafer 表面清潔

協助處理 Wafer 表面的殘膠與有機污染。

02

表面殘膠去除

針對部分製程後殘留物進行電漿清潔評估。

03

鍍膜前表面處理

提升材料表面潔淨度,協助後續鍍膜製程。

04

零件表面清潔

適用於部分金屬零件、治具與加工件之表面污染清潔。

ACTUAL RESULT

真實處理案例

以真空電漿清潔改善 Wafer 表面殘留污染,提升表面潔淨度。

實際處理效果依材料種類、污染程度與製程條件而有所不同。

Wafer 電漿清潔前後對比

WHY YENSHUOH

為什麼選擇言碩

  • 真空電漿製程處理
  • 實際處理經驗
  • 可依材料需求進行評估
  • 歡迎來樣測試與洽詢

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有表面清潔需求嗎?

如果您有 Wafer、零件或其他材料需要進行電漿清潔與表面前處理,歡迎與我們聯繫,我們將協助評估適合的處理方式。

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