去除微量污染
協助去除表面微量油污與有機污染。
PLASMA CLEANING & SURFACE ACTIVATION
透過受控電漿去除材料表面的微量污染,並改善表面能與潤濕性,協助提升後續鍍膜、接著、印刷、塗佈及封裝製程的穩定性。
適用於金屬、塑膠、玻璃、陶瓷、PCB及精密零件。
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PROCESS BENEFITS
針對表面清潔度、潤濕性與後續製程條件,依材料及實際需求進行評估。
協助去除表面微量油污與有機污染。
調整材料表面能,改善液體展開條件。
為膠合、貼合及封裝建立較穩定的表面條件。
可作為鍍膜、印刷、塗佈等製程的前處理。
依零件狀況評估減少液態清洗步驟的可行性。
PROCESS DIFFERENCE
Plasma Cleaning
著重移除表面的微量油污、有機污染、殘膠或其他可能影響後續製程的污染物。
Surface Activation
著重調整材料表面能與潤濕性,改善膠材、油墨、塗層或薄膜與基材之間的接觸條件。
兩者可依產品狀況單獨進行,也可在同一處理流程中搭配使用;實際條件需透過樣品測試確認。
MATERIALS & APPLICATIONS
BEFORE & AFTER
以真空電漿處理改善 Wafer 表面殘留污染,觀察清潔前後的表面狀態變化。
實際處理效果會受到材料、污染狀況、氣體、功率、壓力及處理時間影響,圖片作為表面狀態變化示意。
TECHNICAL GUIDE
需要進一步評估製程時,可展開查看影響處理結果的主要條件。
電漿中的活性粒子會與材料表面的有機污染、微量油污或殘留物反應,將污染物轉化並帶離表面,同時可改變表面的化學狀態與潤濕條件。
不同產品不應直接套用同一組條件,建議先以樣品確認處理方向。
| 比較項目 | 真空電漿 | 大氣電漿 |
|---|---|---|
| 處理環境 | 受控真空腔體內進行 | 常壓環境中進行 |
| 處理範圍 | 適合批次、多面與複雜形狀工件 | 適合局部、連續或線上處理 |
| 製程整合 | 可控制氣體、壓力與處理時間 | 較容易整合至連續產線 |
| 選擇依據 | 依產品尺寸、材質、產能與後續製程需求評估 | |
FAQ
可協助分解或移除表面微量油污與有機污染,但厚重油膜或大量殘留通常仍需先清洗,再依樣品狀況確認電漿處理效果。
金屬、塑膠、玻璃、陶瓷、PCB、Wafer及部分複合材料皆可評估,實際仍需依材質特性、耐溫與表面狀況確認。
處理條件不當可能影響特定材料,因此會依材料、外觀與功能需求調整氣體、功率、壓力及時間,並建議先進行樣品測試。
活化效果會隨材料、儲存環境與時間逐漸衰減,通常建議處理後儘快進行接著、印刷、塗佈或鍍膜等後續製程。
電漿可改善表面清潔度與潤濕性,但最終附著表現仍受基材、膠材、塗層及後續製程影響,應以實際樣品與測試結果確認。
建議提供材料名稱、尺寸、污染狀況、目前製程、預期改善項目、後續工序及照片,方便先判斷測試方向與樣品需求。
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請提供材料、污染狀況、目前製程與預期改善項目,我們將協助評估合適的測試方向與處理方式。